網站地圖聯系我們 │ English │ 中國科學院
 
  儀器設備
公告通知
·關于2018年勞動節放假安排的通知[04.08]
·關于2018年清明節放假安排的通知[03.20]
·关于中共中國科學院党组巡视组巡视苏州纳米所的公告[03.15]
·關于2018年元旦放假安排的通知[12.04]
·關于2017年國慶節放假安排的通知[09.05]
  您現在的位置:首頁 > 公共技術服務中心 > 儀器設備 > 國際實驗室
SN201707092 磁控濺射鍍膜系統
2018-04-26| 文章来源: | 【
品名

品名

磁控濺射鍍膜系統

型號

JGP500

制造商

沈陽思創真空技術有限公司

主要功能

鍍制各種單層膜,可用于鍍制金屬膜、半導體膜、介質膜、鐵磁材料薄膜及各種合金膜和摻雜的化合物薄膜。該設備能夠將100×100的基片實現雙面鍍膜,同時樣品台具有冷卻和加熱雙重功能。

技術指標

極限真空:系統經24小時連續烘烤(150℃以下)连续抽气,其極限真空≤8×10-5Pa

抽氣速率:系統從大氣開始抽氣,在≤40分鍾內,其真空度≤8×10-4Pa

設備現狀

在用

收費標准


管理員

楊贏

聯系方式

0512-62872755

設備照片


 
版权所有:中國科學院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 备案序号:蘇ICP備10220403號
地址:江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号 邮编:215123 Email: administrator@sinano.ac.cn